根据国家标准 《GB/T 4842-2006 氩》,5N高纯氩气 的纯度应达到 99.999%,即杂质总含量不得超过 0.001%。具体杂质含量标准如下:
5N高纯氩气的主要杂质限值
杂质成分 | 最大允许含量(ppm) | 影响 |
---|---|---|
氧(O₂) | ≤1.5 ppm | 影响氩气的化学稳定性,可能导致氧化反应 |
氮(N₂) | ≤1 ppm | 影响氩气纯度,可能干扰某些工业应用 |
水(H₂O) | ≤1 ppm | 水分会导致纯度下降,影响某些化学反应 |
二氧化碳(CO₂) | ≤1 ppm | 可能影响半导体制造等精密工艺 |
氯化物(如HCl) | ≤1 ppm | 可能腐蚀设备或影响光学镀膜质量 |
氢(H₂) | ≤1 ppm | 在某些应用中可能影响稳定性 |
5N高纯氩气的应用领域
半导体制造:用于晶圆加工、化学气相沉积(CVD)等,防止氧化。
激光切割/焊接:作为保护气体,提高切割精度并延长激光器寿命。
医疗设备:用于MRI超导磁铁的冷却。
光伏产业:硅片生产中的保护气体。
科研实验:如超导体研究、ICP-MS(电感耦合等离子体质谱)载气。
检测与认证
5N高纯氩气需通过 气相色谱(GC) 或 质谱分析(MS) 检测,确保符合 GB/T 4842-2006 标准。
如果需要更高纯度的氩气(如 6N,99.9999%),则杂质含量需进一步降低至 0.1 ppm 级别。
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